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      自動晶棒清洗機的結(jié)構(gòu)組成圍繞自動化清洗流程設(shè)計，各單元協(xié)同運作，實現(xiàn)晶棒從上料到干燥的全流程潔凈處理，主要包含以下核心部分：
1.上料與下料單元
      這是設(shè)備的進(jìn)出料樞紐，通常配備機械臂、輸送帶或氣動夾具，可適配不同直徑（50-300mm 常見規(guī)格）的單晶硅棒、多晶硅棒。上料端具備自動定位與夾緊功能，能正確將晶棒輸送至清洗工位，避免偏移影響清洗效果；下料端設(shè)有成品暫存區(qū)與抽檢工位，部分機型還配備不合格品分揀裝置，方便后續(xù)質(zhì)量檢測。
2.清洗腔體單元
      作為核心清洗區(qū)域，采用耐腐蝕不銹鋼材質(zhì)打造，具備良好密封性，防止清洗液外泄與外界雜質(zhì)混入。腔體內(nèi)部按工序分為多個功能區(qū)：預(yù)清洗腔通過高壓噴淋去除晶棒表面浮塵、大顆粒硅粉；超聲波清洗腔內(nèi)置高頻超聲波發(fā)生器（頻率 28-120kHz 可調(diào)），利用空化效應(yīng)剝離微小雜質(zhì)與金屬離子；漂洗腔則通過多級純水沖洗，避免清洗劑殘留。部分機型還會增設(shè)真空清洗腔，滿足半導(dǎo)體級晶棒的深度潔凈需求。
3.藥劑與純水供給單元
      負(fù)責(zé)清洗介質(zhì)的正確輸送與管理，包含清洗劑儲液罐、去離子水儲存罐、精密過濾系統(tǒng)和計量泵。計量泵可嚴(yán)格控制清洗劑濃度與純水用量，確保漂洗水的電阻率≥18MΩ?cm，符合高潔凈度清洗標(biāo)準(zhǔn)；同時配備廢液回收與循環(huán)過濾裝置，實現(xiàn)水資源與清洗劑的循環(huán)利用，降低運行成本。
4.溫控與干燥單元
      溫控模塊分布在各清洗腔體中，可將清洗液溫度正確控制在 20-80℃，通過調(diào)節(jié)溫度提升清洗劑活性與清洗效率。干燥單元是清洗后的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，通常采用熱風(fēng)循環(huán)干燥或真空干燥技術(shù)，干燥腔內(nèi)置溫度與風(fēng)速調(diào)節(jié)組件，確保晶棒表面快速干燥且無水分殘留、無氧化痕跡，保障后續(xù)工序的加工精度。
5.控制系統(tǒng)單元
      以 PLC（可編程邏輯控制器）為核心，搭配觸摸屏人機交互界面，是設(shè)備的 “指揮中樞”。操作人員可通過界面預(yù)設(shè)清洗程序，如超聲波功率、清洗時間、溫度參數(shù)等，同時支持工藝參數(shù)的存儲、調(diào)取與生產(chǎn)數(shù)據(jù)追溯。部分機型可接入工廠 MES 系統(tǒng)，實現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控與智能化生產(chǎn)管理，還配備故障報警功能，便于及時排查設(shè)備問題。
6.輔助單元
      包含機架、密封組件、廢液處理系統(tǒng)和安全防護(hù)裝置。機架采用高強度鋼材，保障設(shè)備運行穩(wěn)定性；密封組件用于各腔體與輸送通道的銜接，防止漏液與噪音擴散；廢液處理系統(tǒng)對清洗廢水進(jìn)行過濾、中和處理，符合環(huán)保排放要求；安全防護(hù)裝置如急停按鈕、腔體門聯(lián)鎖裝置等，可有效保障操作人員的人身安全。