

等離子清洗機的核心特點是利用高能等離子體實現對材料表面的干式、高精度處理,兼具清潔、活化、刻蝕等多重功能,且環保高效。 核心特點 1. 處理方式:干式清潔,環保無殘留 無需使用水、有機溶劑等化學清洗劑,僅依靠等離子體中的高能粒子與材料表面污染物發生作用,實現清潔。

自動供液系統在日化行業中主要用于實現原料輸送、配比、加注的自動化與正確化,核心價值是提升生產效率、保障產品質量穩定,并降低人工成本與物料浪費,廣泛覆蓋日化產品的生產全流程。

全自動硅片清洗機是針對硅片表面污染物(如顆粒、金屬離子、有機物殘留等)進行高精度、自動化清潔的專用設備,其核心應用場景集中在對硅片純度、表面平整度要求較高的行業,具體如下: